نام فایل : حکاکی

فرمت : .doc

تعداد صفحه/اسلاید : 13

حجم : 82 کیلوبایت

حکاکی لایه نازک
SiO
2
معمولاً بوسیله رقیق کردن یا
Buffer
کردن
HF
انجام می شود.
حکاکی های
PSG
10 بار سریع تر از اکسید رشد یافته حرارتی می باشد.
حکاکی
Anisotropic
در مورد
Si
با استفاده از حکاکی پلاسما به کمک یون در ترکیبی از
C
2
F
6

و
CH
3
F
...